產(chǎn)品簡(jiǎn)介
XR850:測(cè)距0~850m(一般目標(biāo))、0~1200m(高反射目標(biāo)),距離400m內(nèi)±0.5m/400~1000m內(nèi)±0.8~1m/1000~2000m內(nèi)±1m/垂直角±0.5℃,標(biāo)準(zhǔn)、近距C、遠(yuǎn)距F模式;
XR1200:距離0~1200m(一般目標(biāo))、0~2000m(高反射目標(biāo)),精度距離400m內(nèi)±0.3m/400~1000m內(nèi)±0.5m/1000~2000m內(nèi)±1m/垂直角±0.3℃,掃描、標(biāo)準(zhǔn)、近距C、遠(yuǎn)距F模式;